Tratamento com plasma em filmes semicondutores pode melhorar produção de hidrogênio

Pesquisa do Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais (CDMF) e do Centro de Inovação em Novas Energias (CINE) descreveu uma abordagem inovadora de tratamento com plasma para filmes de tri-seleneto de antimônio que tornou hidrofílica sua superfície normalmente hidrofóbica, propriedade física de uma molécula que é aparentemente repelida pela água.

No experimento, os pesquisadores utilizaram plasma de nitrogênio e de oxigênio para aumentar a fotoeletroatividade do material na reação de desprendimento de hidrogênio. Imagem: Triseleneto de antimônio/Voutsas G.P., Papazoglou A.G., Rentzeperis P.J/Wikipedia

O material tem propriedades que o credenciam para ser utilizado como fotocatodo para geração de gás hidrogênio pelo método de divisão de molécula de água com energia solar.

Mas a hidrofobia da superfície do tri-seleneto de antimônio prejudica seu desempenho na célula fotoeletroquímica, diminuindo sua capacidade de transformar energia luminosa em energia química.

Obter hidrogênio com energia solar é importante porque esse gás é um forte candidato à produção de energia elétrica no futuro, inclusive em veículos.

No experimento, os pesquisadores utilizaram plasma de nitrogênio e de oxigênio para aumentar a molhabilidade (a capacidade de um líquido se manter em contato com a superfície) do material e, dessa forma, aumentar sua fotoeletroatividade na reação de desprendimento de hidrogênio.

A pesquisa traz, assim, uma nova estratégia possível para melhorar a molhabilidade de semicondutores. (Agência FAPESP)

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